CVD(化學氣相沉積)
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OTF-1200X-5-III-F3LV帶滑動法蘭三溫區CVD系統 -
GSL-1700X-4-C2HV1700℃兩通道混氣高真空CVD系統 -
GSL-1700X-F3LV1700℃單溫區三通道混氣CVD系統 -
OTF-1200X-4- C4LVS1200℃雙管滑動式四通道混氣CVD系 -
OTF-1200X-4-RTP-C3HV高真空快速CVD系統 -
OTF-1200X-4-Ⅲ-C9HV高真空三溫區CVD系統 -
OTF-1200X-F3LV開啟式單溫區低真空CVD系統 -
RTP-1000-F3LV快速升溫CVD系統 -
OTF-1200X-4-C4LVS1100℃雙管滑動快速加熱冷卻爐 -
OTF-1200X-80SL1200℃單溫區滑軌爐 -
PPM級雙柱惰性氣體凈化器 -
PF-02-PPM可再生脫氧管 -
PF-2大容量（5CF）容積式自動進料器 -
PF-1S容積式自動進料器 -
LPG-5實驗型離心霧化干燥機 -
BK-380-2多通道精密蠕動泵 -
300S-P-H可加熱型注射泵 -
MSK-USP-6000實驗型霧化干燥器 -
GSL-2Z-LCD-S小型二通道混氣系統 -
ZF-MFC-1C質量流量控制器 -
GSL-3F-PTFE防腐型3路浮子混氣系統 -
精密氮氣發生器 -
CGM-2F混氣系統2路浮子 -
ALD-GSL-42通道ALD控制單元 -
ALD-1200X-R-4ALD回轉爐系統 -
ALD-1200X-4雙通道ALD管式爐系統 -
OTF-1200X-4-RTP-SL滑動式RTP快速退火爐 -
OTF-1200X-80-SL單管滑動快速加熱冷卻爐 -
GSL-1100X-III-D11大面積雙管石墨烯生長爐 -
OTF-1200X-5-III-D41200℃雙管三溫區 -
TF-1200X-4-C4LVS1200℃雙管滑動式四通道混氣CVD系統 -
OTF-1200X-III-HPCVD-SE1200℃三溫區HPCVD系統
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